酸性蝕(shi)刻液用途(tu)和(he)堿(jian)性蝕(shi)刻液有何不同

　　蝕刻液是通過侵蝕材料的特性來進行雕刻的一種液體。業界采用的蝕刻液,主要分為酸性蝕刻液與堿性蝕刻液兩種。酸性蝕刻液主要成分氯化銅、鹽酸、氯化鈉和氯化銨。堿性蝕刻液主要成分為氯化銅﹑氨水﹑氯化銨,補助成分為氯化鈷、氯化鈉、氯化銨或其它含硫化合物以改善特性。

  ; 　其中，酸性蝕(shi)刻(ke)液(ye)和(he)堿性蝕(shi)刻(ke)液(ye)的蝕(shi)刻(ke)機理、影(ying)響(xiang)蝕(shi)刻(ke)速(su)率(lv)的因(yin)素、特(te)性不一(yi)樣都(dou)不一(yi)樣。

　　酸性蝕刻液機理是：，；

　　堿性蝕刻液機理是：，

　　酸性蝕(shi)刻(ke)(ke)液(ye)的蝕(shi)刻(ke)(ke)速率(lv)(lv)易控制,蝕(shi)刻(ke)(ke)液(ye)在穩定狀態下能(neng)達到高的蝕(shi)刻(ke)(ke)質(zhi)量；溶銅量大(da)；蝕(shi)刻(ke)(ke)液(ye)容易再生與回收，從而減少污染；而堿性蝕(shi)刻(ke)(ke)液(ye)的蝕(shi)刻(ke)(ke)速率(lv)(lv)快(可達70μm/min以上),側蝕(shi)小；溶銅能(neng)力高,蝕(shi)刻(ke)(ke)容易控制；蝕(shi)刻(ke)(ke)液(ye)能(neng)連續再生循環(huan)使用,成本低。

 　　由以(yi)上(shang)特性(xing)決定(ding)，酸(suan)性(xing)蝕(shi)刻(ke)液用途(tu)可用于(yu)多(duo)層印(yin)制板的(de)(de)內(nei)層電(dian)路圖形的(de)(de)制作或微波印(yin)制板陰板法直接(jie)蝕(shi)刻(ke)圖形的(de)(de)制作；而堿性(xing)蝕(shi)刻(ke)液一般適用于(yu)多(duo)層印(yin)制板的(de)(de)外層電(dian)路圖形的(de)(de)制作及(ji)純錫印(yin)制板的(de)(de)蝕(shi)刻(ke)。而總(zong)的(de)(de)來說，堿性(xing)與(yu)酸(suan)性(xing)蝕(shi)刻(ke)液用途(tu)要權(quan)衡對(dui)抗蝕(shi)層的(de)(de)破壞情況、蝕(shi)刻(ke)速度，溶液再生及(ji)銅的(de)(de)回收、環境保護及(ji)經(jing)濟效果等各方面的(de)(de)影(ying)響因素選擇合適的(de)(de)試劑。

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